負壓法二氧化氯發生器采用化學法現場製備二氧化氯並同時進行投加的設備，外形結構為落地櫃式。投加水射

器在櫃式發生器內。T70G4000生成CLO₂（二氧化氯）的反應物：NaCLO₂（亞氯酸鈉）+

HCL（鹽酸）。T70GC4000生成CLO₂的反應物：NaCLO₂+HCL+NaCLO（次氯酸鈉）。

T70GT4000生成CLO₂的反應物：NaCLO₂+CL₂（氯氣）。所產生CLO₂的生成物含量在

95%以上。該係統為負壓投加係統（不同於采用91手机看片的正壓投加係統）。因而**性及可靠

性更高。

      壓力水流經水射器生成負壓，吸入二氧化氯溶液與水射器投加水混合，投入工藝過程。流入

發生器的反應物，由浮子流量計測量流量。如果是手動操作的發生器，反應物投加量和二氧化氯

發生量由流量計本身帶的手動閥控製。反應物和用以優化反應的水被抽取進入反應塔，從塔中流

出的二氧化氯溶液流過一個觀察鏡，可以通過顏色來估計產出量。如果係列為自動控製，流過流

量計的反應物由一個三個閥座的CHLOROMATIC閥控製，這個閥的閥芯的形狀可以反映正確的

劑量比。閥的執行器可接受外部控製裝置的4~20mA控製信號，自動調節二氧化氯的發生量。

負壓法二氧化氯發生器 特      點

• 高產出率：CLO₂產生率＞95%
• 運行費用低：使用商品濃度原料，無需稀釋
• 低維護費用：可動部件少，負壓運行，部件過壓損壞率低
• 準確：原料進入為流量計直接測量，精度高
• 運行**：負壓操作，無產生壓力的泵，無外泄之慮直接投加，不需存儲所產生的CLO₂
• 高效自控：可實現多種自動控製方式

負壓法二氧化氯發生器 技術參數

• 投加量：T70G4000 80g/h~10kg/h   T70GT4000 15kg/h~30kg/h

                   T70GC4000 350g/h~9kg/h

• 低發生量：T70G4000  80,150g/h     NaCLO2   7.5%（80g/L，у=1.07）

                     HCL  8.5%（88g/L,у=1.04）

• 消耗：CLO₂（1g）←→NaCLO₂（23.2mL）+HCL（23.2mL）
• 高發生量：300g~10kg/h~30kg/h  NaCLO₂  25%（306g/L,у=1.22）

                     HCL  32%（371g/L,у=1.16）  NaCLO  14%（у=1.20）

• 消耗：CLO₂（1g）←→NaCLO₂（6mL）+HCL（4.3mL）

                CLO₂（1g）←→NaCLO₂（4.25mL）+HCL₂（0.55gg）

• 稀釋水壓力：≤150kpa穩定
• 控製輸入：4~20mA
• 化學品容器標高：容器底部min1.5m高度
• 水射器工作水壓：max.2.0MPa
• 發生器環境溫度：5~30℃，*佳20℃
• 自動控製輸出信號：1.控製閥位4~20mA（1）

                               2.自動手動切換SPDT觸點（1）

                               3.低真空觸點SPDT觸點（1）（選擇項）

                               4.反應物缺乏報警SPDT觸點（2）

• 調節範圍：建議50~100%投加量
• 控製方式：詳見下圖
• 外形尺寸：610（L）×1524（H）×650（W）mm

注：反應物中不能含有氫氟酸。從反應物容器至發生器管路上應安裝過濾器。

二氧化氯發生器投加係統控製方式

      對控製係統配置選擇殘餘量及複合環路控製需另配分析儀表和外部控製器，係統配置設計

請谘詢上海費波自控技術有限公司。

A.水流量穩定和被氧化物質穩定的工藝過程       B.水流量變化和被氧化物質穩定的工藝過程

                     手動控製                                               流量比例控製

C.水流量穩定和被氧化物質不穩定的工藝過程  D.水流量變化和被氧化物質不穩定的工藝過程

           二氧化氯殘餘量負反饋控製            二氧化氯殘餘量和水流量複合環控製